Zawór dozujący z ultra-czystą kontrolą do systemów czyszczenia komponentów elektronicznych z zabezpieczeniem przed zanieczyszczeniami

Zaprojektowany specjalnie dla systemów czyszczenia komponentów elektronicznych obsługujących półprzewodniki i płytki drukowane, nasz zawór dozujący zapewnia ultra-czystą kontrolę płynu czyszczącego, jednocześnie zapobiegając zanieczyszczeniom. Zawór posiada ultra-czystą wnękę wewnętrzną z polerowaniem Ra 0,05μm i wykładziną PFA, aby zapobiec uwalnianiu cząstek (≤1 cząstka/mL, ≥0,5μm), które mogłyby uszkodzić wrażliwe półprzewodniki.

Kompatybilny z wodą DI (18,2 MΩ*cm) i IPA, zawór wykorzystuje uszczelnienia z perfluoroelastomeru, które spełniają standardy czyszczenia elektronicznego SEMI F021. Dzięki precyzyjnej kontroli przepływu w zakresie 0,1-10 ml/min i tolerancji błędu ±0,1%, idealnie dopasowuje się do wymagań dotyczących czyszczenia mikro-komponentów. Konstrukcja zapobiegająca zanieczyszczeniom obejmuje obieg zamknięty, aby zapobiec kontaktowi powietrza z płynem czyszczącym, utrzymując optymalny poziom czystości.

• Ultra-czysta wnęka (Ra 0,05μm) z wykładziną PFA zapewnia kontrolę zanieczyszczeń ≤1 cząstka/mL
• Uszczelnienia z perfluoroelastomeru kompatybilne z wodą DI/IPA spełniają standardy SEMI F021
• Precyzyjna kontrola przepływu (0,1-10 ml/min, błąd ±0,1%) dostosowuje się do mikro-komponentów elektronicznych
• Konstrukcja obiegu zamkniętego utrzymuje czystość płynu czyszczącego, unikając kontaktu z powietrzem
• Kompatybilny z myjkami ultradźwiękowymi do zautomatyzowanych procesów